专利数量大增 韩国企业发力EUV光刻技术研究

贾桂鹏 |  2020-11-17

  近日,据外媒报道,以三星为代表的韩国企业在EUV光刻技术研究方面取得了长足的进展。根据对韩国知识产权局(KIPO)过去十年(2011-2020年)的EUV相关专利统计,在2014年增加88项,2018年为55项,2019年为50项。

专利数量大增 韩国企业发力EUV光刻技术研究

  值得注意的是,韩国企业在EUV光刻技术上一直缩小与全球最高水准的差距,在韩国知识产权局2019年收录的50项专利里,有40项都是由韩国人提交的。这也是韩国人在提交专利的次数上,首次超过其他国家人员。

  EUV光刻技术整合了多种先进技术,包括多层反射镜、多层膜、防护膜、光源等。在过去十年内,包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发,以确保技术领先。

  今年,以台积电和三星电子为代表的芯片代工,已经开始使用5nm EUV光刻技术来生产智能手机的应用处理器。

  按照公司在韩国申请专利的数量来看,卡尔蔡司、三星电子、ASML占据前三位,分别占据18%、15%、11%。

  按照技术划分来看,处理技术、曝光技术和膜技术的专利申请数量分别达到32%、31%、28%,分列一、二、三位;剩余其他技术占据9%。

  随着,科技不断发展,芯片制造技术已经达到5nm制程,使得全球对于光刻机以及光刻技术的需求变得更加强烈,面对广阔的市场环境,各国也开始在该领域展开了“军备竞赛”。

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